Ionenimplantation ist ein Vakuumprozess in der Halbleiterherstellung bei dem Wafer mit Fremdatomen dotiert werden, um die elektrischen Materialeigenschaften, z. B. Leitfähigkeit zu verändern. Im Wesentlichen gibt es folgende Prozessschritte: Erzeugung der Ionen zur Dotierung in einer Quelle, Extraktion der Ionen und selektive Ionenseparation, Ablenkung des Ionenstrahls, Beschleunigung der Ionen und Fokusierung des Ionenstrahls auf den Wafer. Diese Anordnung wird als Strahlengang bezeichnet.
CE-MAT liefert qualitativ hochwertige Ersatzteile und Komponenten dieses Strahlengangs für Ionenimplanter von Applied Materials, Varian und Axcelis. Weiterentwicklungen und Modifikationen der Bauteile entsprechend den Anforderungen unserer Kunden sind ein zusätzlicher Service.
Die Hochleistungswerkstoffe für die Bauteile zur Erzeugung, Bündelung und Ablenkung des Strahlengangs sind Molybdän, Wolfram, Tantal und Grafit. Darüber hinaus kommen Isolatoren aus hochreiner Keramik, z. B. BN zum Einsatz.
Schematische Darstellung des Strahlengangs in der Ionenimplantation.
